● El proyecto estratégico “Desarrollo de Talento Especializado In Situ en Semiconductores” está dentro de la política pública Jalisco Tech Hub Act, implementada desde el 2022 por el Gobierno de Jalisco
Jalisco avanza con acciones estratégicas para convertirse en el hub de innovación y alta tecnología impulsando la capacitación; por lo que Intel y el Gobierno de Jalisco -a través de la Secretaría de Innovación, Ciencia y Tecnología (SICyT) y del Consejo Estatal de Ciencia y Tecnología de Jalisco (COECYTJAL)- anunciaron el proyecto “Desarrollo de Talento Especializado In Situ en Semiconductores”, que forma parte de la política pública Jalisco Tech Hub Act.
“El mundo tiene muchos años relocalizando sus cadenas; desde Jalisco hemos planteado esta hipótesis de que nearshoring es friendshoring y que Intel sepa que de la base tecnológica es uno de nuestros mejores amigos y por eso este compromiso; así como ustedes quieren que la tecnología llegue a todo el mundo nosotros queremos que el talento de Jalisco y de México impacte a todo el mundo”. afirmó Xavier Orendáin De Obeso, Coordinador General Estratégico de Crecimiento y Desarrollo Económico del Gobierno del Estado.
Dicho programa permitirá seleccionar, entrenar y certificar a 100 beneficiarios durante un año, incluyendo a estudiantes de último año de grado y posgrado, así como técnicos, titulados universitarios e incluso personas con experiencia, para capacitarlos en áreas relacionadas a la industria de semiconductores en las instalaciones del Guadalajara Design Center (GDC), uno de los centros más importantes de Intel en Latinoamérica.
Por su parte Francisco Medina, director del COECYTJAL, aseveró que este es un segundo paso del programa que se desarrolla desde 2004 en donde se han formado más de 600 personas de las cuáles 300 forman parte de Intel. Destacó que el 24% de los puestos técnicos del sector TI son mujeres; 1% más que Silicon Valley.
Para el desarrollo del programa se cuenta con un presupuesto de $26,950,800 de los cuales, $12,000,000 son aportados por el COECYTJAL y $14,950,800 por INTEL Tecnología de México.
La SICyT ha invertido más de $10,000,000 de pesos en programas que forman parte de la política pública Jalisco Tech Hub Act.
"Hemos impulsado el desarrollo de talento de la mano de la industria y universidades para lograr resultados a corto y mediano plazo y así sentar las bases para que se siga formando talento de primer nivel a través de Estrategias de Educación Superior como el Programa Universitario de Alta Tecnología, maestrías y especialidades, Mejora tu inglés con PLAi, power skills, Talento Altamente Especializado (TAE), Hiring Challenge y este programa que es muestra de que seguimos impulsando a la industria de alta tecnología”, afirmó el titular de la SICyT, Alfonso Pompa Padilla.
El programa que comienza en noviembre tendrá una duración de un año, en donde los becarios tendrán acceso único a equipos avanzados con los que se realizan labores de diseño y validación tecnológica que impulsan el desarrollo de inteligencia artificial (IA), 5G, IoT, arquitectura y diseño de computadoras, así como prototipado de silicio y sistemas.
Dicha capacitación -que busca emitir mínimo 300 certificados en diseño y desarrollo de semiconductores- también formará en áreas de Desarrollo de semiconductores; Tecnologías emergentes y Habilidades técnicas y blandas requeridas. También se realizarán dos ferias de empleo que permita a los candidatos del programa conocer la oferta laboral del sector.
Además permitirá incrementar la empleabilidad y competitividad de la industria local y nacional, consolidando a Jalisco como un referente en el campo de los semiconductores.
En el evento también se inauguró el Centro de Experiencia de Intel GDC en donde estuvieron presentes Roberto Arechederra, Secretario de Desarrollo Económico del Gobierno del Estado y representantes y directivos de la iniciativa privada.
Jalisco es de los pocos estados en el país que cuenta con una de las 3 empresas integradas y líderes globales en diseño, manufactura, y validación de semiconductores como INTEL.
